真空鍍膜機(jī)需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。

使用步驟：
電控柜操作
1. 開水泵、氣源。
2. 開總電源。
3. 開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機(jī)械泵、預(yù)抽，開渦輪分子泵電源、并啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)預(yù)抽，開前級(jí)泵和高真空閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能打開電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開關(guān)，延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。

關(guān)機(jī)順序：
1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。
3. 到50以下時(shí)，再關(guān)維持泵。

適用范圍：
1．建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛(wèi)浴、五金合葉、家具等。
2．制表業(yè)：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品。
3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．
4．大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等。
5、不銹鋼管和板（各種類型表面）
6、家具、燈具、賓館用具。
7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器皿等五金制品鍍超硬裝飾膜。
8、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納米膜和納米疊層膜。